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产品名称:洗涤剂真空均质乳化机

更新时间:2019-02-25

产品型号:XMD

产品报价:

产品特点:洗涤剂真空均质乳化机在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

XMD洗涤剂真空均质乳化机的详细资料:

洗涤剂真空均质乳化机,洗涤剂真空均质分散机,洗涤剂加热型分散机,洗涤剂均质搅拌分散机

一、洗涤剂

洗涤剂(Detergent) 是通过洗净过程用于清洗而专门配制的产品。主要组分通常由表面活性剂、助洗剂和添加剂等组成。洗涤剂的种类很多,按照去除污垢的类型,可分为重垢型洗涤剂和轻垢型洗涤剂;按照产品的外形可分为粉状、块状、膏状、浆状和液体等多种形态

 

二、洗涤剂生产工艺及相关设备

液体合成洗涤剂的生产工艺比较简单,主要设备是带有搅拌器的搅拌罐。搅拌罐须用不锈钢制成,搅拌机须能变速。搅拌机的桨叶的必须定位恰当,要使上一层的桨叶正好浸在液面下,以防搅拌时带进大量空气。搅拌罐一般须有夹套,夹套内通水蒸气和水,通过对蒸汽量和水量的调节达到用热水加温或用冷水降温的目的。搅拌罐顶部配有高剪切乳化机进行乳化分散。有特别的工艺需要,得到细化更好的效果配置一台管线式乳化机。  制造方法如下所示。

 

将规定数量的去离子水加到搅拌罐内,调节夹套内的水蒸气和水量进行水浴加温,同时开动搅拌机和高剪切高速乳化机。 

当锅内水温升到40℃时,慢慢投入AES,边加边搅拌,加完后继续搅拌,直到全部溶解为止。在此阶段,水温保持℃40,不超过50℃。  

保持料温40-50℃,在继续搅拌的条件下依次加入LAS、AEO-9、6501(烷基醇酰胺)、氧化胺等,一直搅拌分散到混合均匀为止。 

降温到40℃以下加香精、着色剂、防腐剂及增溶剂。 

测溶液ph值,酌加ph值调节剂调节ph值,调节剂调节ph值至定值。 

加食盐调节到所需粘度。食盐进行粘度的终调节。调节前应先把产品冷却到环境温度或测粘度的标准温度。 

在配制过程中,应该非凡注重两点:第一,一定要把AES慢慢加进水中,而决不直接加水来溶解AES,否则可能形成一种粘度极大的凝胶;第二,AES在高温下很轻易水解,因此整个操作温度应控制在40℃左右,不应超过60℃。 

对含有AES的配方来说,若总活性物浓度超过28%,则应先将其余的表面活性剂及大量的与增溶剂拌入40℃的水中,搅拌到物料完全溶解后再加AES。

 

三、洗涤剂的配制技术

液体洗涤剂和颗粒固体洗涤剂不同的是,液体洗涤剂不需另外加工成为一定的商品型式,这是液体洗剂在技术上的一个优点。要注重的是,假如包装不好或储藏过久,则有发干或混浊的现象。液体产品所用的原料应当含盐类越少越好,环氧乙烷的缩合物不含电解质,所以是这方面的理想原料。 

一个典型的强效型液体洗涤剂配方大致包含下列几种成分。 活性成分(占10%-15%)在结构适于制造液体洗涤剂的有: 

a.非离子表面活性剂,如环氧乙烷和烷基酚、脂肪醇、脂肪酸等的缩合物以及这些产物的含氮衍生物; 

b.仲烷基硫酸钠; 

c.磺酸和磺酸酯被氨或醇胺中和的产品——脂肪醇硫酸铵、烷基苯磺酸乙醇胺盐。 泡沫稳定剂(占5%) 通常采用烷基醇酰胺,除了有稳定泡沫的作用外,还有较好的洗涤能力和增溶作用,并能增加液体的粘度。 

碱性助剂(占10-15%) 如三聚磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐、碳酸盐等,大多采用溶解度较大的钾盐或铵盐。 

增溶剂(占5%) 如甲苯磺酸盐、尿素等。 

溶剂(占10%) 如乙醇、异丙醇,用以降低液体的冻点。 其他(占1%) 如CMC、增白剂、香精、色料等。 水(占60-70%)。 

液体洗涤剂成品可用手工方法或自动调和分装在瓶内,一切分装液体的设备都适用于液体涤剂。

四、洗涤剂真空均质乳化机

研磨乳化设备是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

 

五、XMD研磨乳化机主要参数

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

 

采用XMD2000/4研磨分散机,进行研磨细化。

7L罐体(罐体大小后期可选择)及循环系统,易于批次物料处理。

搅拌机进行搅拌预混,提高产品的均匀性。

我司研磨分散机为超高速设备(转速18000rpm),需要配冷水机对机械密封进行降温。

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