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产品名称:氧化钴湿法分散研磨机

更新时间:2019-04-13

产品型号:XMD

产品报价:

产品特点:氧化钴湿法分散研磨机需要加入液体介质中分散应用,氧化钴+液体介质+分散剂采用XMD2000系列研磨分散机进行研磨分散,解决团聚问题,更均匀的分散,并进一步细化粒径,一般分散后粒径为D90小于1微米,分散效果好,效率高。

XMD氧化钴湿法分散研磨机的详细资料:

一、产品名称关键词:氧化钴湿法分散研磨机,氧化钴浆料分散机,氧化钴浆料纳米分散机,氧化物研磨分散机

二、氧化钴简介

氧化钴为黑灰色六方晶系粉末。相对密度6.45。溶于酸,不溶于水,醇,氨水。易被一氧化碳还原成金属钴。高温时易与二氧化硅、氧化铝或氧化锌反应生成多种颜料。

三、氧化钴应用

氧化钴是一种重要的过渡金属氧化物。通常作为生产硬质合金、超耐热合金、绝缘材料和磁性材料的主要原料以及化学工业中的催化剂和染料。目前我国氧化钴产品的主要应用领域如下:

油漆添加剂,在制造各种油漆时加入氧化钴,生产的油漆性能有所提高,特别是在油漆中起着催干剂的作用,即在油漆使用中易于快速晾干,以提高应用速率。这对油漆的快速施工大有益处。

搪瓷和陶瓷颜料,搪瓷材料中加入氧化钴后,可耐腐蚀和提高耐磨度。在各种建材和日用陶瓷中,用氧化钴制成蓝色的颜料或釉料涂于陶瓷制品,经焙烧后呈现了鲜艳的陶瓷品,更具有艺术性。

精炼石油催化剂,钴制品在石油炼制中作为催化剂有着较长的历史,且在促进炼油的发展中起着重要作用。如有的用金属钴与铝、铁等制成合金催化剂;而用氧化钴作为石油催化剂也是十分重要,对于加速石油炼制的作用是不可缺少的。因此,近几年来氧化钴催化剂的使用跃居重要地位。

应用于:压敏电阻、热敏电阻、氧化锌避雷器、显像管玻壳、锂离子电池等行业。用于制油漆颜料、陶瓷釉料和钴催化剂等。

四、氧化钴的分散

氧化钴粉体应用,需要分散,或水或油或溶剂。粉体分散易于团聚,需要强机械力进行研磨分散。氧化钴粉体粒径一般为10微米左右,需要加入液体介质中分散应用,氧化钴+液体介质+分散剂采用XMD2000系列研磨分散机进行研磨分散,解决团聚问题,更均匀的分散,并进一步细化粒径,一般分散后粒径为D90小于1微米,分散效果好,效率高。

五、氧化钴湿法分散研磨机特点

1、SID希德研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到更低,保证机器连续24小时不停机运行。

2、氧化钴分散到液体介质当中,容易形成团聚。太仓希德研磨式分散机可以很好的解决这一问题,“胶体磨+分散机”的独特结构,一级研磨模块可以将团聚体研磨打开,第二级分散模块再瞬间对物料进行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。 

3、氧化钴是超细粉体,所以需要强大的作用对其进行分散,传统分散设备转速一般不足3000rpm,难以分散。而SID研磨分散机转速高达18000rpm,剪切速率高,可以充分的将氧化钴分散到液体介质当中。  

4、SID研磨分散机采用管线式分体式结构,物料从进口进入设备工作腔中,进行处理,然后再从出口打出,物料可以得到充分剪切细化分散,产品更均匀稳定。另外可以实现在线式生产,满足大工业化生要求。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

 

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

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