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产品名称:对位芳纶沉析纳米研磨机

更新时间:2019-09-27

产品型号:XMD

产品报价:

产品特点:对位芳纶沉析纳米研磨机过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地研磨、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及均质的效果。

XMD对位芳纶沉析纳米研磨机的详细资料:

对位芳纶沉析纳米研磨机

 一、产品名称概述:对位芳纶树脂研磨机,对位芳纶短纤维研磨机,间位芳纶超细研磨机,一步法芳纶沉析研磨设备,填充复合芳纶纤维研磨机,芳纶在线式连续化沉析机

二、对位芳纶

聚对苯二甲酰对苯二胺纤维(芳纶1414)是聚对苯二甲酰对苯二胺经液晶溶液干喷-湿纺制得的高强、高模纤维,是当前重要的高科技纤维。具有高强高模、耐高温、耐腐蚀、质量轻等优异综合性能。其强度是钢丝的5~6倍,模量为钢丝或玻璃纤维的2~3倍,韧性是钢丝的2倍,而重量仅为钢丝的1/5左右,是目前世界上高性能纤维中用途广的纤维,被广泛用于国防、航天航空、信息产业等领域(如弹道壳体、装甲坦克外壳和大型客机机翼复合材料、防弹衣、通讯光缆加强件)。

三、普遍的对位芳纶纤维生产工艺流程

聚对苯二甲酰对苯二胺与浓硫酸按比例混合----溶解----脱泡----计量挤出----入凝固浴成型----水洗----碱洗----水洗----热处理----卷绕成形。

四、对位芳纶颗粒填充的要求

芳纶填充关系到几个点,需要对粒径的要求极高,一般都为1微米左右。干成品的短纤维刚性和韧性很强,非常的难细化,使用的设备不当,会导致粒径越大,厚度越小,导致长丝易断的情况。影响后期应用的各方面性能。希德机械团队针对于这个难题进行了研究,解决了大部分客户的问题,5G时代芳纶取得了重大的应用,芳纶的的需求空间得以扩宽。

五、如何更好的研磨芳纶14

芳纶14刚性较强,在拉丝经凝固浴成型后难以研磨。希德人建议芳纶原液需要经过沉析后立马进入高性能的研磨设备,在热固性没有冷却成型之前进入该设备,效果可以研磨到细小的粒径。我司可直接通过沉析和研磨2阶段的设备。可替换高扭曲的双螺杆挤出设备。成本较低,操作方便,性价比较高。

六、沉析设备

改进型沉析机系列装备了三组非标准定制的工作头设备分别有两个进料口,一个入口进凝固浴,另一个入口芳纶原液入口处带有计量泵,可以更好的控制浆液与母液的配比。工作原理为利用特殊转子的高速旋转产生负压喂料,并将高模量液晶态的原液连续均匀地导入快速流动的凝固浴中,经剪切腔混合反应后被瞬间剪切分散,沉析出羽绒状的短纤维,由于混合液原液在混合前是互相不接触的,只有在混合前的瞬间,原液被弥散状导入混合液之中,所以沉析出来的纤维更细,更均匀。

七、芳纶研磨设备
高剪切均质研磨机工作原理:高剪切均质研磨机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地研磨、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及均质的效果。

芳纶研磨设备高剪切均质研磨机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的定子与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(均质头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。

狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

XMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下, 凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

芳纶研磨设备型号表:

芳纶研磨设备

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

XMD2000/4

400

18,000

51

4

DN25/DN15

XMD2000/5

1000

10,500

51

11

DN40/DN32

XMD2000/10

3000

7,200

51

22

DN80/DN65

XMD2000/20

8000

4,900

51

45

DN80/DN65

XMD2000/30

20000

2,850

51

90

DN150/DN125

XMD2000/50

60000

1,100

51

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的 10%。

对位芳纶沉析纳米研磨机

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